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- 定義-ナノリソグラフィーとはどういう意味ですか？
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- Techopediaはナノリソグラフィーについて説明します
定義-ナノリソグラフィーとはどういう意味ですか？
ナノリソグラフィーは、ナノテクノロジーの分野であり、非常に小さな構造を作成するために、顕微鏡レベルでパターンを作成、書き込み、またはエッチングするプロセスの名前です。このプロセスは通常、マイクロ/ナノチップやプロセッサなどの小型で高速の電子デバイスを作成するために使用されます。ナノリソグラフィーは、主に電子から生物医学まで、さまざまな技術分野で使用されています。Microsoft AzureとMicrosoft Cloudの紹介|このガイドを通して、クラウドコンピューティングとは何か、Microsoft Azureを使用してクラウドからビジネスを移行および実行する方法を学習します。
Techopediaはナノリソグラフィーについて説明します
ナノリソグラフィーは、さまざまなメディア上でナノスケールパターンを作成するためのさまざまなプロセスを説明するために使用される広義の用語であり、最も一般的なものは半導体材料シリコンです。ナノリソグラフィーの主な目的は、電子デバイスの縮小です。これにより、より多くの電子部品をより小さなスペースに詰め込むことができます。つまり、より小さなデバイスをもたらすより小さな集積回路です。必要な材料がより少ないため、より速く、より安価に製造できます。また、電子は非常に短い距離を移動するだけでよいため、パフォーマンスと応答時間も向上します。ナノリソグラフィーで使用されるいくつかの技術は次のとおりです。
- X線リソグラフィー-近接アプローチによって実装され、フレネル回折で近接場X線に依存します。光学分解能を15 nmに拡張することが知られています。
- ダブルパターニング—同じレイヤーの既に編集されたパターンのスペースの間に追加のパターンを挿入することにより、リソグラフィプロセスのピッチ解像度を上げるために使用される方法。
- 電子ビーム直接描画（EBDW）リソグラフィ—電子ビームを使用してパターンを作成するリソグラフィで使用される最も一般的なプロセス。
- 極端紫外線（EUV）リソグラフィ— 13.5 nmの超短光波長を利用する光学リソグラフィの形式。